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GMD2000系管線式電子廢液研磨分散機(jī)列的特點(diǎn)：具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。

氧化鋯漿料高速剪切分散機(jī)的定轉(zhuǎn)子間隙一般為0.2-0.3mm，而普通乳化機(jī)一般為0.5-0.7mm，SGN定轉(zhuǎn)子更加精密，對于物料的細(xì)化效果更好。

納米氫氧化鎂分散機(jī)，SGN納米氫氧化鎂研磨式分散機(jī)，是由膠體磨+高剪切分散機(jī)組成，形成一體化的設(shè)備，先研磨后分散，避免物料團(tuán)聚。

GRS2000磷酸鐵鋰電極材料分散機(jī)，采取直立式設(shè)計(jì)，使物料可以全部進(jìn)入分散腔，符合工藝要求和流體力學(xué)要求，增加其工作效率

GMD2000酸樹脂壓敏膠高速研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。