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超細納米膠體磨

簡要描述:超細納米膠體磨的特點:具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性;該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質(zhì)混合;三級膠體磨由定、轉(zhuǎn)子系統(tǒng)所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加,從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

  • 產(chǎn)品型號:GM2000/4
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-08-18
  • 訪  問  量:536
詳情介紹

 超細納米膠體磨,高剪切超細膠體磨,超細乳化設(shè)備,進口膠體磨,對于膠體磨來說zui大的一個目的就是要達到乳化的效果,那么從設(shè)備角度來說影響乳化效果的因素有哪些呢?
1、乳化頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好) 
2、乳化頭的剪切速率(越大,效果越好) 
3、乳化頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好) 
4、物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)。
5、循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好)

另外線速度是衡量設(shè)備效果的一個重要的指標

線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。 
–剪切速率 (s-1) = v速率 (m/s)
                             g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m) 
由上可知,剪切速率取決于以下因素: 
–轉(zhuǎn)子的線速率
–在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=3.14 XD(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM/60

 超細納米膠體磨,主要用于微乳液及超細懸浮液的生產(chǎn)。由于工作腔體內(nèi)三組分散頭(定子+轉(zhuǎn)子)同時工作,乳液經(jīng)過高剪切后,液滴更細膩,粒徑分布更窄,因而生成的混合液穩(wěn)定性更好。三組分散頭均易于更換,適合不同的工藝應用。該系列中不同的型號的機器都有相同的線速度和剪切率,非常易于擴大生產(chǎn)。適宜的溫度,壓力與粘度參數(shù)與DSSPERSSNG一樣。也符合GSP/SSP清潔標準,適合食品及醫(yī)藥生產(chǎn)。                                      


上海思峻自主研發(fā)生產(chǎn)的超細膠體磨,具有高轉(zhuǎn)速、低能耗、低噪音、高壽命等優(yōu)勢,經(jīng)過SGN全體研發(fā)生產(chǎn)部員工的不懈努力,終于解決了SGN高剪切膠體磨的提速問題。市場上一般使用的膠體磨由于定轉(zhuǎn)子精度以及機械密封的原因,轉(zhuǎn)速zui高只能達到2910轉(zhuǎn),而SGN研發(fā)的立式分體式膠體磨將轉(zhuǎn)速提高到9000轉(zhuǎn),從而更好的解決了市場的需求。

 超細膠體磨的特點:具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性;該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質(zhì)混合;三級膠體磨由定、轉(zhuǎn)子系統(tǒng)所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加,從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

型號

標準流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

GM2000/4

300-1,000

9,000

23

2.2

DN25

DN15

GM2000/5

3,000

6,000

23

7.5

DN40

DN32

GM2000/10

8,000

4,200

23

15

DN50

DN50

GM2000/20

20,000

3,000

23

37

DN80

DN65

GM2000/30

40,000

1,500

23

55

DN150

DN125

GM2000/40

70,000

1,500

23

90

DN150

DN125


 超細納米膠體磨信息來源于www.sgnprocess。。com


 

 

 

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